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研究结果表明，磁控溅射制备的碳氟膜为非晶结构。
在双元靶严格解的基础上，证明了泽优溅射与原子的半径大小无关。
它们拍发的大量导弹可以造成不可思议的溅射伤害.
现在反应溅射法已被广泛应用于切削刀具、成型工具、注射模具和诸如冲头和冲模之类的通用器具，以增强其耐磨性和使用寿命。
老实说,狂战斧挺好用的,它可以带来相当可观的攻击加成,恢复能力,并且它还有溅射效果.
本文主要论述基板员偏压与铜基体磁控溅射离子镀铝膜的关系。
春雨啊，哗哗地下，雨珠落在湖面上，像珍珠落在玉盘里四面溅射；雨珠落在干土上，地皮上陷下一个小坑，像草原姑娘脸上的笑靥。雨好牧草就好，牧草好牲口就好，牲口好牧民的生活就好。
所述的合金组合物优选形成为用于薄膜应用领域的溅射靶。
过高的溅射功率使薄膜以非晶态的形式存在.
反应磁控溅射广泛应用于制备光学薄膜.
也可以单独作为磁控溅射或多弧离子镀膜机使用。
在不同条件下用射频溅射方法制备了氮化碳薄膜。
方法：用电子束蒸发和射频磁控溅射两种技术制备了天然HA薄膜。
采用氢离子溅射和X射线光电子能谱相结合的方法，检测焦磷酸盐镀铜层和铁基体界面区含氧量的变化，证明了氧化层的存在。
用磁控溅射低温沉积镀膜技术制做锰铜薄膜,能够保持薄膜中锰、铜、镍成份的相对稳定和锰铜合金正六面三元固溶体金相结构的特性.
采用磁控射频溅射法制备光波导用玻璃薄膜。
高Z材料因其高熔点和低溅射率近年来受到越来越多的关注，但是难熔材料的脆性等问题仍然是这类材料应用的一大障碍。
这是溅射离子簇质谱中继“幻数”结构的另一个重要性质。
本文将主要叙述等离子溅射镀膜的原理与方法,并且简单介绍磁控管溅射仪和锇等离子镀膜仪等.
首先提出真空管道自体真空镀膜新概念，采用特殊的阴极靶结构设计成功的解决了长管道内表面直流溅射镀膜的难题。
射频溅射沉积的薄膜均匀性和致密性要优于直流溅射沉积的薄膜。
研究了用铟锡合金靶直流磁控反应溅射制备ITO透明号电膜。
真空室内的气体等离子体可由热灯丝或射频放电产生，4另外还配置了4个金属等离子体源、两套磁控溅射靶和冷却靶台。
应用TRIM程序模拟了离子在氚钛靶上的溅射产额。
为改善射频溅射法制备的防水透湿涂层的外观和拒水性，对涤纶织物基底上的溅射氟碳高分子膜的泛黄问题进行了研究。
三极反应溅射具有设备简单，工艺简便，镀层致密等特点。
资源编号：ZY1291600；资源类别：(造句参考大全)；收集时间：2020-05-04；资源参考链接
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