![](http://www.aixyy.com/yuyan-images.php?filename=q1w2e3q1w2e31q2w3eaixyy-pic1q2w3epeitu00011q2w3em199q1w2e3jpg&width=330&height=330) 对于反应溅射,可通过连续改变反应气体流量制得化学成分比连续变化的梯度薄膜。
研究了用铟锡合金靶直流磁控反应溅射制备ITO透明号电膜。
通过磁控反应溅射,在玻璃基底上制备了不同溅射温度下的氧化钛薄膜。
反应溅射中氧分压对薄膜的影响也很大,较高的氧气分压有助于较好结晶的二氧化钛薄膜的生成。
用射频反应溅射法制备出BCN薄膜。
三极反应溅射具有设备简单,工艺简便,镀层致密等特点。
资源编号:ZY1245341;资源类别:(造句参考大全);收集时间:2020-05-03;资源参考链接
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